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高純金屬濺射靶材

發布于2023-09-25 15:09:48 點擊:0
濺射靶材是集成電路的核心材料之一,近年來向著高濺射率、高純金屬的方向發展。其 下游應用場景主要包括半導體、面板、太陽能電池,隨著消費電子終端市場的發展與完 善,高純金屬濺射靶材的下游需求不斷上升,2013-2020 年全球靶材市場規模的復合增 速達 14%,市場規模逐漸擴大。濺射靶材的行業壁壘較高,美國與日本企業掌握核心技 術,壟斷全球市場。我國的濺射靶材行業起步較晚,較為落后,但市場需求全球領先, 國產替代空間大。國內企業正在逐漸突破技術瓶頸,為打破美日壟斷高端靶材市場的不 利局面而努力。
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